凯泽金属谈溅射钛靶材的应用特点

最后更新 :2022.04.08

使用大量钛靶材的行业主要包括半导体集成电路,平板显示器,太阳能电池,磁记录介质,光学器件等(这些材料按用途分类)。 其中,高纯度溅射靶材主要用于材料的纯度。要求更高稳定性的领域,例如半导体,平板显示器,太阳能电池,磁记录介质等。

钛靶材

在所有应用中,半导体对溅射靶材具有较高的技术要求和纯度,并且它们也是较昂贵的。 在这方面的要求明显高于其他应用领域,如平板显示器和太阳能电池。 在纯度,内部微结构等方面设定了极其严格的标准。如果溅射靶材的杂质含量过高,则形成的膜将无法满足使用所需的电性能,并且在加工过程中容易在晶片上溅射工艺、薄膜上形成的颗粒会引起短路或电路损坏,从而严重影响薄膜的性能。

芯片制造对溅射目标金属纯度的较高要求通常达到99.9995%以上,而平板显示器和太阳能电池分别要求99.999%和99.995%。

除了纯度外,该芯片还为溅射靶材的内部微观结构设定了极其严格的标准。 经过长期的实践,有必要掌握生产过程中的关键技术,并生产出符合工艺要求的产品。

超高纯金属和溅射靶材是电子材料的重要组成部分。 溅射靶材产业链主要包括金属提纯,靶材制造,溅射镀膜和终端应用。 其中,靶材制造和溅射镀膜是整个溅射靶材产业链中的关键环节。

以上就是凯泽金属为大家讲解的溅射靶材的应用的相关知识,希望对大家有所帮助。

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